113學年度第2學期
教室名稱及代號:化材館二樓材料系教室ME205 教室容量:35

列印日期：2025-03-14

星期節次	星期一	星期二	星期三	星期四	星期五	星期六	星期日
08:10 │ 09:00 第一節
09:10 │ 10:00 第二節			6824 磁記錄原理與應用蔡佳霖
10:10 │ 11:00 第三節		6880 專題討論(二) 林孟昌	6824 磁記錄原理與應用蔡佳霖
11:10 │ 12:00 第四節		6880 專題討論(二) 林孟昌	6824 磁記錄原理與應用蔡佳霖
13:10 │ 14:00 第五節
14:10 │ 15:00 第六節				6833 高熵材料特論蔡銘洪
15:10 │ 16:00 第七節	6832 進階儲能材料與元件林孟昌		8221 高等元件物理賴盈至	6833 高熵材料特論蔡銘洪
16:10 │ 17:00 第八節	6832 進階儲能材料與元件林孟昌		8221 高等元件物理賴盈至	6833 高熵材料特論蔡銘洪
17:10 │ 18:00 第九節	6832 進階儲能材料與元件林孟昌		8221 高等元件物理賴盈至
18:20 │ 19:10 第A節
19:15 │ 20:05 第B節
20:10 │ 21:00 第C節
21:05 │ 21:55 第D節