國立中興大學教學大綱
課程名稱 (中) 半導體製造技術(4151)
(Eng.) Semiconductor Manufacturing Technology
開課單位 物理系
課程類別 選修 學分 3 授課教師 張茂男
選課單位 物理系 / 學士班 授課使用語言 中文 英文/EMI N 開課學期 1122
課程簡述 簡介積體電路產業的發展現況與半導體元件的製作方法。課程中將介紹我國的半導體產業鏈與聚落,技術內容包括半導體晶圓技術、離子佈植與熱處理製程、微影與蝕刻製程、薄膜沉積技術、拋光與平坦化處理,以及製程整合案例,最後導入半導體元件的應用,與上述製程相關的元件材料分析與可靠度分析方法也將一併於課程中說明。在學期中後段,將安排科技參訪行程,如有疫情疑慮,則以科技影片替代。
先修課程名稱
課程含自主學習 N
課程與核心能力關聯配比(%) 課程目標之教學方法與評量方法
課程目標 核心能力 配比(%) 教學方法 評量方法
介紹與半導體製程相關的技術與知識。使學生了解積體電路的整體生產過程以及各個關鍵模組技術的機制、特性與關聯性,期盼未來能以這些知識為基礎,深入從事相關課題的研發。
1.專業知能
2.問題分析與邏輯推理
80
20
講授
討論
參訪
出席狀況
書面報告
測驗
作業
授課內容(單元名稱與內容、習作/每週授課、考試進度-共18週)
週次 授課內容
第1週 課程說明
第2週 半導體製造概述
第3週 半導體材料特性
第4週 磊晶技術
第5週 半導體晶圓技術
第6週 離子佈植技術(改至星期三下午上課)
第7週 放假
第8週 熱退火技術(改至星期三下午上課)
第9週 期中考
第10週 摻雜與載子分布分析
第11週 微影技術
第12週 微影技術
第13週 電子顯微鏡技術
第14週 薄膜成長技術
第15週 蝕刻技術
第16週 科技參訪(台積創新館+台積電中科新訓中心)
第17週 平坦化技術(含表面分析)與製程整合專論
第18週 期末考
學習評量方式
出席及課堂參與(10%);製程作業(10%);期中考(40%); 期末考(40%)。
教科書&參考書目(書名、作者、書局、代理商、說明)
主要參考書籍為:
Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology
(by Hong Xiao)
歐亞書局

ULSI Technology
(by C. Y. Chang and S. M. SZE)
東華書局

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課程教材(教師個人網址請列在本校內之網址)
課程教材將上傳至教學系統。



課程輔導時間
視需要安排。

聯合國全球永續發展目標
04.教育品質   08.就業與經濟成長   09.工業、創新基礎建設提供體驗課程:N
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更新日期 西元年/月/日:2024/02/15 18:00:51 列印日期 西元年/月/日:2024 / 4 / 28
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