| 課程與核心能力關聯配比(%) |
課程目標之教學方法與評量方法 |
| 課程目標 |
核心能力 |
配比(%) |
教學方法 |
評量方法 |
本課程介紹雷射直寫式黃光微影製程的原理及其應用於半導體製程圖案化之方法。期藉由本課程的修習讓學生充分了解各項設備的功能，進而活用於其研究工作。
This course introduces the principles of Laser Direct Write Lithography and its applications in semiconductor patterning processes. By completing this course, students will gain a comprehensive understanding of the functionalities of various equipment, enabling them to effectively apply these tools in their research work.
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| 授課內容(單元名稱與內容、習作/每週授課、考試進度-共16週加自主學習) |
| 週次 |
授課內容 |
| 第1週 |
雷射直寫式黃光微影製程
-黃光微影原理步驟
-元件圖形設計
-雷射直寫機台運用
-製程參數調控
Laser Direct Write Lithography Process
-Principles and Steps of Photolithography
-Component Design
-Operation of Laser Direct Write Systems
-Process Parameter Control
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| 第2週 |
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| 第3週 |
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| 第4週 |
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| 第5週 |
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| 第6週 |
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| 第7週 |
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| 第8週 |
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| 第9週 |
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| 第10週 |
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| 第11週 |
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| 第12週 |
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| 第13週 |
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| 第14週 |
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| 第15週 |
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| 第16週 |
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自主學習
內容 |
01.參與專業論壇、講座、企業分享等產官學研相關交流活動
03.製作專題報告
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| 學習評量方式 |
| Attendance and Project Report |
| 教科書＆參考書目(書名、作者、書局、代理商、說明) |
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| 課程教材（教師個人網址請列在本校內之網址） |
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| 課程輔導時間 |
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| 聯合國全球永續發展目標(連結網址) |
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